特許

J-GLOBAL ID：200903052765506641

電子部品用洗浄剤組成物

発明者： 牛山 広俊 ,  横井 健二 ,  木村 明 ,  増田 直子
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 臼村 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360186
公開番号（公開出願番号）：特開平5-179289
出願日： 1991年12月30日
公開日（公表日）： 1993年07月20日
要約：

【要約】【構成】 (a) 化1のフェノールまたはC1〜C5アルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物、(b) 界面活性剤、(c) C6〜C18 のパラフィン系炭化水素、(d) C1〜C8アルコールのアルキレンオキシド付加物を含有する電子部品用洗浄剤。【効果】 液晶セル、ロジン系半田フラックス等の電子部品関連の洗浄効果に優れ、環境および作業上安全な水系洗浄剤。【化1】(R1:水素あるいは炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基p:2〜4の数q:アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもよいr:1〜3の数)

請求項（抜粋）：

(a) 化1で示される化合物【化1】(R1:水素あるいは炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基p:2〜4の数q:アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもよいr:1〜3の数)を含有することを特徴とする電子部品用洗浄剤組成物。

IPC (9件)：

C11D 3/20 ,  C11D 10/02 ,  C23G 5/032 ,  H01L 21/304 341 ,  C11D 1:22 ,  C11D 1:72 ,  C11D 1:28 ,  C11D 7:24 ,  C11D 3:20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-111496
  
• 特開平1-263200
  
• 特開昭59-176398
  
• 洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-238954   出願人：東邦化学工業株式会社, 旭化成工業株式会社