特許

J-GLOBAL ID：200903052772627110

エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法

発明者： 西村 裕幸 ,  藤ノ木 朗 ,  松谷 利勝 ,  滝田 政俊
出願人/特許権者： 信越石英株式会社 ,  信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 武田 正彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-182857
公開番号（公開出願番号）：特開平6-199532
出願日： 1991年06月29日
公開日（公表日）： 1994年07月19日
要約：

【要約】[目的] エキシマレーザー照射時に生成する常磁性欠陥の量を減少させることができる。[構成] 直接火炎加水分解法において、原料として、化学式R1nSi(OR2)4-n(式中、R1,R2は、同一又は異種の脂肪族一価炭化水素基、nは0乃至3の整数を示す)を有するアルコキシシラン化合物を用いて石英ガラスを製造する方法。

請求項（抜粋）：

化学式R1nSi(OR2)4-n(式中、R1,R2は、同一又は異種の脂肪族一価炭化水素基、nは0乃至3の整数を示す)を有するアルコキシシラン化合物を、酸水素炎により火炎加水分解し、生成する微粒子シリカを回転している耐熱性基体上に堆積・溶融ガラス化させて石英ガラスを製造し、該石英ガラスを均質化処理することにより、少なくとも一方向に脈理を有しない高均質石英ガラスを形成し、該高均質石英ガラスをアニール処理することを特徴とするエキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法。

IPC (3件)：

C03B 20/00 ,  C03B 8/04 ,  G02B 1/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平2-080343
  
• 特開平2-064645
  
• 特開平1-138145
  
• 特開平4-270130
  
• 特開昭60-090836