薄膜蒸着装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本悟
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-546549
公開番号（公開出願番号）：特表2008-524842
出願日： 2005年07月20日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：

サセプタに装着された多数の基板上に薄膜を形成するための反応チャンバを有する薄膜蒸着装置及びこれを用いる薄膜蒸着方法を開示する。この装置は、外部から反応チャンバの内部に、反応ガスを含む多数のガスを供給するガス供給手段、ガス供給手段から供給されるガスを工程目的に合うように分配して噴射するガス分配手段、ガス分配手段から分配されたそれぞれのガスを区画して収容し、ガスを滞留させる多数の反応セルを備えるガス滞留手段、ガス滞留手段を回転駆動させることにより、それぞれの反応セルで滞留するガスを基板に順次接触させる回転駆動手段、及び前記ガス滞留手段により滞留するガスを反応チャンバの外部に吸引するガス排出手段を含む。

請求項（抜粋）：

サセプタに装着された多数の基板上に薄膜を形成するための反応チャンバを備えた薄膜蒸着装置において、外部から反応チャンバの内部に、反応ガスを含む多数のガスを供給するガス供給手段; ガス供給手段から供給されるガスを工程目的に合うように分配して噴射するガス分配手段; ガス分配手段から分配されたそれぞれのガスを区画して収容し、ガスを滞留させる多数の反応セルを備えるガス滞留手段; ガス滞留手段を回転駆動させることにより、それぞれの反応セルで滞留するガスを基板に順次接触させる回転駆動手段;及び前記ガス滞留手段により滞留するガスを反応チャンバの外部に吸引するガス排出手段; を含んでなることを特徴とする薄膜蒸着装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 , C23C 16/455 , H01L 21/316 , H01L 21/318

FI (5件)：

H01L21/31 B , C23C16/455 , H01L21/31 C , H01L21/316 X , H01L21/318 B

Fターム (63件)：

4K030AA03 , 4K030AA06 , 4K030AA11 , 4K030AA13 , 4K030AA14 , 4K030AA16 , 4K030AA18 , 4K030BA38 , 4K030BA40 , 4K030BA42 , 4K030BA43 , 4K030BA44 , 4K030CA04 , 4K030EA05 , 4K030EA06 , 4K030FA10 , 4K030HA01 , 4K030JA03 , 4K030KA28 , 5F045AA06 , 5F045AA08 , 5F045AB31 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AC01 , 5F045AC02 , 5F045AC08 , 5F045AC09 , 5F045AC11 , 5F045AC12 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045AE01 , 5F045BB08 , 5F045BB09 , 5F045DP15 , 5F045DP28 , 5F045DQ10 , 5F045DQ12 , 5F045EB10 , 5F045EC01 , 5F045EE12 , 5F045EE14 , 5F045EF09 , 5F045EF14 , 5F045EF20 , 5F045EK07 , 5F058BA20 , 5F058BC02 , 5F058BC03 , 5F058BC08 , 5F058BC09 , 5F058BF04 , 5F058BF07 , 5F058BF23 , 5F058BF24 , 5F058BF27 , 5F058BF29 , 5F058BF30 , 5F058BF36 , 5F058BF37 , 5F058BG01 , 5F058BG02

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平1-057712
薄膜形成方法および薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-267076 出願人：富士ゼロックス株式会社

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