特許
J-GLOBAL ID：200903052787284928
非球面形状測定器および非球面光学部材の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-290814
公開番号（公開出願番号）：特開平10-253346
出願日： 1997年10月23日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 高次非球面の形状測定を行う際に、被検面のアライメント誤差補正を高精度に掛けることが可能な非球面形状測定器を提供する。【解決手段】 算出された偏微分係数の概略値およびサンプリング点のXY座標値を近似関数式に代入することにより得られる相対偏差値の演算データを実測データから減算して得た減算データの最小自乗和を与える変数の微小増分である最適近似値を被検面3aおよび参照面の相対変位として算出し、アライメント誤差補正を行う。
請求項（抜粋）：
回転対称な非球面形状の被検面の形状を参照面の形状からの相対偏差値に基づいて計測する非球面形状測定器において、回転対称な非球面形状の被検面および参照面の相対偏差値を前記被検面上のサンプリング点に対応する実測データとして得る実測手段と、前記非球面形状の設計形状を表す設計式を前記被検面および前記参照面の相対変位を記述する複数の変数に関して座標変換した被座標変換式を前記変数に関して全微分することにより得られる前記相対偏差値の近似関数式を構成する偏微分係数の関数式に、前記変数の設計値および前記サンプリング点のXY座標値を代入することにより、前記偏微分係数の概略値を算出する第1の演算手段と、前記第1の演算手段により算出された前記偏微分係数の前記概略値および前記サンプリング点のXY座標値を前記近似関数式に代入することにより得られる前記相対偏差値の演算データを前記実測データから減算して得た減算データの最小自乗和を与える前記変数の微小増分である最適近似値を前記被検面および前記参照面の相対変位として算出する第2の演算手段と、前記第2の演算手段により算出された前記相対変位に応じて前記相対偏差値を補正する第3の演算手段とを備えることを特徴とする非球面形状測定器。
IPC (4件)：
G01B 21/20
, B24B 13/00
, G01B 9/02
, G01B 11/24
G01B 21/20 A
, B24B 13/00 A
, G01B 9/02
, G01B 11/24 D
