特許
J-GLOBAL ID：200903052793099911
電子ビーム露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-020972
公開番号（公開出願番号）：特開平6-236842
出願日： 1993年02月09日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 面積状の電子ビーム発生機能と、描画図形データに応じて電子ビーム束の断面形状を自在に制御できる機能とを同時に実現して、どんな形状のパタンでも高いスループットを実現しながら描画することのできる電子ビーム露光装置。【構成】 平面状ないし2次元的に配列された電子ビーム発生源11には、描画する図形情報を画素単位に分割して図形情報の有無に応じて画素毎の電子ビームのオン-オフ信号を生成する図形情報処理部12と、このオン-オフ信号に従って電子ビーム束18を所望の形状に励起する形状制御部13が配設されている。ビーム束は、電子銃14によって試料19に対し所定の加速電圧によって加速され、電子レンズ15によって試料上に縮小して投影される。ビーム束の試料上での位置を移動させるために、偏向器16が電子レンズの前段もしくは電子レンズのつくる収束場に重畳させて設けられている。
請求項（抜粋）：
LSIパタンを電子ビームによって描画する、いわゆる電子ビーム露光装置において、平面状ないし2次元的に配列された電子ビーム束の発生手段と、描画すべきLSIパタンの図形情報に応じて前記電子ビーム束を所望の形状に変化させる手段と、前記電子ビーム束を試料に対し加速する手段と、前記電子ビーム束を試料上に縮小して投影する手段と、前記電子ビーム束を偏向し試料上での前記電子ビーム束の位置を移動させる手段と、試料上に投影した前記電子ビーム束が試料から発生させる反射電子もしくは2次電子を検出する手段とを設けたことを特徴とする電子ビーム露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 9/00
