特許

J-GLOBAL ID：200903052803998162

シリコン酸化膜のウエツトエツチング方法

発明者： 宮田 季丸
出願人/特許権者： シヤープ株式会社
代理人 (1件)： 西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-195262
公開番号（公開出願番号）：特開平5-041372
出願日： 1991年08月05日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：

【要約】【目的】 ウェハへのダメージのない、しかも、容易にエッチング形状を制御できるウェットエッチングの方法を提供することを目的とする。【構成】 基板上に形成されたシリコン酸化膜に、バッファードフッ酸(NH4F/HF/)を薬液として用いたウェットエッチングを行う方法において、上記薬液のNH4Fの混合モル比を17%以上20%以下とする。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたシリコン酸化膜に、バッファードフッ酸(NH4F/HF/)を薬液として用いたウェットエッチングを行う方法において、上記薬液のNH4Fの混合モル比を17%以上20%以下とすることを特徴とするシリコン酸化膜のウェットエッチング方法。