特許
J-GLOBAL ID:200903052805345085

反射防止膜の成膜方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奈良 武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-152848
公開番号(公開出願番号):特開平7-333403
出願日: 1994年06月10日
公開日(公表日): 1995年12月22日
要約:
【要約】【目的】 広帯域反射防止膜を簡単に成膜する。【構成】 スパッタリング初期に基板1とターゲット2を対向させ、成膜時間に比例して基板1を連続的に傾けながら成膜する。膜が傾き角度θに比例して多孔質となり、屈折率が連続的に低くなって、広帯域反射防止膜となる。
請求項(抜粋):
スパッタリング成膜の初期に基板をターゲット面に対して対向させ、成膜時間に比例して基板を連続的に傾けながら成膜することを特徴とする反射防止膜の成膜方法。
IPC (2件):
G02B 1/11 ,  C30B 23/08

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