特許
J-GLOBAL ID：200903052813593675
厚膜又は薄膜インダクタ及びそのインダクタンス調整方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-357454
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106130
出願日： 1991年12月03日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目 的】中間周波又は高周波回路に使用されるもので、容易に構成できるとともに調整が容易であるインダクタを提供する。【構 成】絶縁基板上に厚膜又は薄膜の導体膜及び磁性材膜で各々インダクタのコイル部及び磁心として構成する。次にインダクタ単体又はインダクタを組み込んだ回路において、その出力を求める特性値に合致するよう磁性材膜をレーザー又はサンドブラスト法により徐々に削除してインダクタンスを調整する。
請求項（抜粋）：
絶縁基板上に導体膜と磁性材膜を設けて構成したインダクタの磁性材膜を徐々に削除して、その面積を減少させることによりそのインダクタンスを調整することを特徴とするインダクタンス調整方法。
IPC (2件)：
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