特許
J-GLOBAL ID：200903052821250639
塗膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-037707
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034932
出願日： 1991年02月08日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】[目的] 金属厚板の微細エツチング加工や、金属箔張積層板に微細な回路パタ-ンを形成するための、可視光レ-ザ-直描法に適した生産性の高いエツチングレジスト膜を得る。[構成] 可視光照射により架橋もしくは重合し得る感光性基とイオン性基とを含有する光硬化性樹脂及び光重合開始剤を含有する液状感光性組成物を塗装した塗装板を可視光レ-ザ-により露光し、現像した後、さらに可視光及び/又は紫外線露光してエツチングレジスト膜を形成することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
可視光照射により架橋もしくは重合し得る感光性基とイオン性基とを含有する光硬化性樹脂及び光重合開始剤を含有する液状感光性組成物を塗装した塗装板を可視光レ-ザ-により露光し、現像した後、さらに可視光及び/又は紫外線露光することを特徴とするエツチングレジスト膜の形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/40
, C25D 13/06
, G03F 7/20 505
