特許

J-GLOBAL ID：200903052827754809

2進回折光学要素における位相アポダイゼーション

発明者： エリス・ディー・ハリス
出願人/特許権者： ゼロックス コーポレイション
代理人 (1件)： 小堀 益
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-151309
公開番号（公開出願番号）：特開平7-311307
出願日： 1994年07月01日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】 光学系に好適に利用できる2進回折光学素子の提供。【構成】 2進回折光学素子のマルチレベル表面レリーフ位相格子を、相互にまたは上下方向にオフセットさせ、格子構造により回折される光ビームから位相シフトを誘導する。λ/2(n-1)のオフセットにより、2つのマルチレベル表面レリーフ位相格子構造により回折されるビームの間に、πの位相シフトを生じる。λ/4(n-1)のオフセットにより、2つのマルチレベル表面レリーフ位相格子構造により回折されるビーム間にπ/2の位相シフトを生じる。

請求項（抜粋）：

入射ビームの位相アポダイゼーション用2進回折光学素子において、光学基板と、前記光学基板上に少なくとも第1のマルチレベル表面レリーフ位相格子構造と第2のマルチレベル表面レリーフ位相格子構造とを有し、前記第2のマルチレベル表面レリーフ位相格子構造は前記第1のマルチレベル表面レリーフ位相格子構造から一定の深さだけ空間的に垂直方向にオフセットされ、これにより前記第2のマルチレベル表面レリーフ位相格子構造から回折された前記入射光ビームからの光ビームは、前記第1のマルチレベル表面レリーフ位相格子構造から回折された前記入射光ビームからの光ビームと位相がずれるものである、2進回折光学素子。