特許

J-GLOBAL ID：200903052844064549

ポジ型フオトレジスト現像液

発明者： 青山 哲男 ,  福田 秀樹 ,  羽田 真由美 ,  菅原 清
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-282048
公開番号（公開出願番号）：特開平5-094024
出願日： 1991年10月02日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：

【要約】【目的】 本発明は高解像度で、超微細パターンの形成が可能でパターン寸法のバラツキが少なく、優れたパターンプロフィルを与えることができるポジ型フォトレジスト現像液に関する。【構成】 一般式、〔(R1)3 N-R〕+ ・OH- で表される第四級アンモニウム水酸化物水溶液に糖類または糖アルコール類を配合した水溶液からなる。

請求項（抜粋）：

一般式、〔(R1)3 N-R〕+ ・OH- (ただし、式中Rは炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のヒドロキシ置換アルキル基、R1 は炭素数1〜3のアルキル基を示す)で表される第四級アンモニウム水酸化物水溶液1〜10重量%と糖類または糖アルコール類0.1〜3重量%とを含有するポジ型フォトレジスト現像液。

IPC (2件)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-087838
  
• 特開昭64-019344
  
• 特開昭63-259560