特許
J-GLOBAL ID：200903052858029398
結晶方位分布測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109799
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296257
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：
【要約】【課題】 試料の同一領域の二つの結晶方位分布を測定して結晶粒の位置ずれ量を検出し、補正して解析を行なう結晶方位分布測定方法を提供する。【解決手段】 本発明は、同一試料の特定領域の結晶方位分布を、異なる時間に測定し、それらの二つの結晶方位分布を比較してその変化を解析する方法において、異なる時間に測定された少なくとも二つの結晶方位分布間の仮想的な位置ずれ量を変数とし、結晶方位を特徴付ける量の相互相関関数を計算し、その最大値を与える前記変数の値を、測定領域における結晶粒の位置ずれ量として補正する。前記相互相関関数の計算をおこなう結晶方位を特徴付ける量として、(A)試料に対して任意に規定した一定方向の結晶方位ベクトル、(B)試料法線方向の結晶方位ベクトル、(C)試料圧延方向の結晶方位ベクトル、及び(D)特定な結晶方位からの角度のいずれかを使用することが好ましい。
請求項（抜粋）：
同一試料の特定領域の結晶方位分布を、異なる種々の時間に測定し、測定された少なくとも二つの結晶方位分布を比較して結晶粒の変化を解析する方法において、異なる種々の時間に測定された少なくとも二つの結晶方位分布間の同一位置での結晶粒の仮想的な位置ずれ量を変数として結晶方位を特徴付ける量の相互相関関数を計算し、その相互相関関数の最大値を与える前記変数の値を、測定領域における結晶方位の位置ずれ量として補正することを特徴とする結晶方位分布測定方法。
Fターム (18件)：
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001CA03
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001GA13
, 2G001HA01
, 2G001HA13
, 2G001JA11
, 2G001JA14
, 2G001KA08
, 2G001LA02
, 2G001MA05
, 2G001RA03
, 2G001RA06
