特許

J-GLOBAL ID：200903052861317752

形状シミュレーション方法

発明者： 三本木 省次 ,  井上 壮一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-273534
公開番号（公開出願番号）：特開平8-136236
出願日： 1994年11月08日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：

【要約】【目的】 短い計算時間で、現像によるレジストの2次元及び3次元形状を正確に計算することのできる形状シミュレーション方法を提供すること。【構成】 基板上に形成され所望パターンに露光されたレジストを現像処理することにより変化する該レジスト表面の形状を予測する形状シミュレーション方法において、現像前のレジスト表面の複数の点を始点として、これらの点を表面から基板に垂直な方向12に移動し、基板に垂直な方向12の全ての点で移動方向を基板に垂直な方向から基板に水平な方向13,14に切り替え、現像終了時間に到達するまで基板に垂直又は水平な方向に移動した軌跡を経路とし、全ての経路についての包絡線をとり現像後の形状とする。

請求項（抜粋）：

基板上の被加工膜の表面を物理的又は化学的に加工することにより変化する該表面の形状を予測する形状シミュレーション方法において、加工前の前記被加工膜表面上の複数の点を代表点とし、これらの代表点をそれぞれの加工速度に応じて前記基板に垂直な方向に移動させる第1工程と、前記代表点の移動方向を前記基板に垂直な方向から前記基板に水平な方向に切り替える第2工程と、前記代表点をそれぞれの加工速度に応じて前記基板に水平な方向に移動させる第3工程と、任意の加工時間において第1工程から第3工程を経て移動した該代表点の軌跡を経路とし、前記全ての経路についての包絡線又は包絡面をとり前記加工後の形状とする第4工程とを含むことを特徴とする形状シミュレーション方法。

IPC (4件)：

G01B 11/24 ,  G03F 7/26 501 ,  G06F 17/00 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G06F 15/20 D ,  H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フォトレジストの仕上がり形状予測方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-193466   出願人：松下電器産業株式会社, ゼネラルシグナルジャパン株式会社
• フォトレジストの形状の予測方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-184765   出願人：ゼネラルシグナルジャパン株式会社
• 特開平4-044312
  
• 特開昭61-150218