特許
J-GLOBAL ID:200903052866579267

基板の洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-323102
公開番号(公開出願番号):特開平5-160097
出願日: 1991年12月06日
公開日(公表日): 1993年06月25日
要約:
【要約】【構成】 まず、硝子基板1の表面がフレオン9に浸されると、異物12と硝子基板1の隙間にはフレオン9が染み込む。そして、硝子基板1の裏面から照射されたエキシマレーザー光11はフレオン9に吸収されて、温度を上昇させて気化し、フレオン9の気体13は異物12を硝子基板1から引き離す。【効果】 異物の下部で発生したフレオンの気泡により基板表面に付着した異物が基板から引き離す方向に直接力を受けるため、上記異物を効果的に除去することができる。
請求項(抜粋):
基板の表面を溶液に浸すステップ、及びパルス光を前記基板の裏面から照射するステップを含むことを特徴とする基板の洗浄方法。
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開昭63-036535
  • 特開昭54-043469
  • 特開昭58-088082
全件表示

前のページに戻る