特許
J-GLOBAL ID：200903052869686536
可撓性気体の電気めっきシステムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
鮫島 睦
, 玄番 佐奈恵
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-029285
公開番号（公開出願番号）：特開2007-138279
出願日： 2006年02月07日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：
【課題】可撓性基体を処理する処理システムを提供する。【解決手段】システムは、巻かれた、処理されていない可撓性基体を支持するインプットスプールを有するローディングステーション;基体にて1又は複数の所定の処理を実施する処理ステーション;処理した基体を受け入れるアウトプットスプールを有するアンローディングステーション;及び基体を1又は複数の処理に付する間に、可撓性基体を略垂直向きに維持する、基体安定サブシステムを含む。基体安定サブシステムは、可撓性基体が処理ステーション内又は外に移動している間に、基体の上側部分と係合する可動上側クリップ、及び基体の下側部分と係合する複数の下側クリップを含む。基体に形成されるデポジションの均一性を向上させる、カソードクリップに関するシールド、及び電気めっきセル内又は外への下側クリップの移動を許容するとともに、セルから漏れる流体を減少させるシールもまた開示される。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
巻かれた、未処理の可撓性基体を支持するようになっている、インプットスプールを含むローディングステーション;
可撓性基体が略垂直な向きにされている間に、前記可撓性基体に所定の処理を実施するようになっている、処理ステーション
巻かれた、処理をした可撓性基体を支持するようになっている、アウトプットスプールを含むアンローディングステーション;および
前記可撓性基体が前記処理ステーションで前記所定の処理に付されている間、前記可撓性基体を略垂直な向きに維持するようになっている基体安定サブシステム
を含む、可撓性基体をめっきする処理システム。
IPC (3件)：
C25D 17/00
, C25D 17/06
, C25D 17/08
C25D17/00 G
, C25D17/06 E
, C25D17/06 H
, C25D17/08 J
, C25D17/08 P
, C25D17/00 K
