特許

J-GLOBAL ID：200903052873095267

ネガ型ホトレジスト組成物

発明者： 金子 文武 ,  藤村 悟史 ,  宮入 美和 ,  立川 俊和 ,  小林 政一
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-256635
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089459
出願日： 1998年09月10日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 0.20μm以下の微細なレジストパターン形成において、感度、解像性に優れ、しかも孤立レジストパターンの断面形状、真上及び真横から観察される形状が矩形に近い良好な形状を有するレジストパターンが得られるネガ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)p-ヒドロキシスチレンとm-ヒドロキシスチレンとの共重合体からなるアルカリ可溶性樹脂、(B)放射線照射により酸を発生するN-スルホニルオキシイミド化合物及び(C)架橋剤を含有してなるネガ型ホトレジスト組成物とする。

請求項（抜粋）：

(A)p-ヒドロキシスチレンとm-ヒドロキシスチレンとの共重合体からなるアルカリ可溶性樹脂、(B)放射線照射により酸を発生するN-スルホニルオキシイミド化合物及び(C)架橋剤を含有してなるネガ型ホトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/027 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/027 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (9件)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB52 ,  2H025CC17