特許

J-GLOBAL ID：200903052889216927

噴霧盤、噴霧装置および噴霧乾燥装置

発明者： 小金井 稔元 ,  田中 努 ,  横山 哲夫 ,  大川原 正明
出願人/特許権者： 大川原化工機株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-290873
公開番号（公開出願番号）：特開平9-131550
出願日： 1995年11月09日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：

【要約】【課題】 噴霧用コロの上端部の強度を所定以上に保持し、噴霧量が多量になっても所望の噴霧パターンが得られる噴霧用コロを用いた噴霧盤と噴霧装置、および噴霧乾燥装置を提供する。【解決手段】 上下取付円板12,13の間のほぼ周縁に沿ったほぼ同心円上に複数の噴霧用コロ11を固定又は回転可能に取り付けて構成された噴霧盤であり、噴霧用コロ11をほぼ円錐状に形成し、その上端部を円錐面15から上方に向って径が大きくなるようにアーク状に形成した。噴霧盤21と、この噴霧盤21に原液を供給する原液供給手段23を備えた噴霧装置である。噴霧装置を頂部に設け、噴霧装置から噴霧された原液を加熱乾燥するための加熱ガス導入手段26を設けた噴霧乾燥装置である。

請求項（抜粋）：

上下取付円板の間のほぼ周縁に沿ったほぼ同心円上に複数の噴霧用コロを固定又は回転可能に取り付けて構成された噴霧盤であって、該噴霧用コロをほぼ円錐状に形成するとともに、その上端部を円錐面から上方に向って径が大きくなるようにアーク状に形成したことを特徴とする噴霧盤。

IPC (3件)：

B05B 3/02 ,  B01D 1/20 ,  F26B 3/12

FI (3件)：

B05B 3/02 H ,  B01D 1/20 ,  F26B 3/12