特許
J-GLOBAL ID:200903052901544706

水素および一酸化炭素の生成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-133202
公開番号(公開出願番号):特開2001-010802
出願日: 2000年05月02日
公開日(公表日): 2001年01月16日
要約:
【要約】【課題】 炭化水素を原料として水素と一酸化炭素を高い収率で生成するための部分酸化方法を提供する。【解決手段】 水素および一酸化炭素を生成するための炭化水素の部分酸化は固定床方法もしくは流動化床方法により実施され、この方法は、水蒸気および/または二酸化炭素を高温で吸着領域においてペロブスカイト型セラミック混合導体に通し、それにより混合導体を酸素で少なくとも部分的に飽和させて水素および/または一酸化炭素を生成し、ついで高温の少なくとも部分的に酸素で飽和した混合導体を炭化水素と部分酸化反応領域において接触させることを含む。本方法の部分酸化反応段階の間、吸着された酸素は炭化水素と反応し、それにより水素および一酸化炭素を生成する。
請求項(抜粋):
下記の工程を含んでなる方法:a)少なくとも1種の酸素イオン伝導性セラミックを、水蒸気、二酸化炭素、硫黄酸化物、窒素酸化物、およびこれらの混合物からなる群から選ばれる成分を含んでなる供給ガスと、約300〜約1400°Cの範囲の温度および約0.5〜約50baraの範囲の絶対圧で吸着領域において接触させ、それにより前記少なくとも1種の酸素イオン伝導性セラミックを少なくとも部分的に酸素で飽和させ、そして水素、一酸化炭素、硫黄、窒素、もしくはこれらの混合物を生成し;そしてb)前記少なくとも部分的に酸素で飽和した酸素イオン伝導性セラミックから酸素を除去する。
IPC (6件):
C01B 3/34 ,  B01J 20/06 ,  B01J 20/34 ,  C01B 3/56 ,  C01B 13/02 ,  C04B 35/00
FI (6件):
C01B 3/34 ,  B01J 20/06 C ,  B01J 20/34 F ,  C01B 3/56 Z ,  C01B 13/02 A ,  C04B 35/00 Z
引用特許:
審査官引用 (8件)
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