特許

J-GLOBAL ID：200903052901795326

光導波路の製造方法

発明者： 佐久間 健 ,  石川 紫文 ,  細谷 英行
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-024952
公開番号（公開出願番号）：特開2002-228867
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】コア間隔の大小とは無関係に埋設層を形成して、挿入損失を低減することができる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】下部クラッド層101の上にコア層110を形成し、レジスト111をフォトマスクとしてエッチングを行い、コア103と埋設層となる部分115とを同じ厚みとなるように形成する。その後、埋設層となる部分115に対してレーザ光を照射し、垂直方向に厚み傾斜を有する埋設層120を形成する。最後に、上部クラッド層104を形成する。

請求項（抜粋）：

1の主光導波路から2以上の副光導波路が分岐し、これら副光導波路間に埋設層が設けられ、この埋設層は、該副光導波路のコアが分岐する分岐点より該コアの間に密接して形成され、かつ該分岐点から離れて該副光導波路のコアの間隔が広くなるに伴って該埋設層の厚みが薄くなるように形成された光導波路の製造方法において、該埋設層の製造工程は、該埋設層の厚みが該コアの厚みと等しく又は該コアの厚み以上となるように該埋設層を形成した後、該埋設層を光照射により厚み傾斜を有する形状に形成する工程からなることを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/122

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 D

Fターム (7件)：

2H047KA03 ,  2H047LA12 ,  2H047PA04 ,  2H047PA05 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047TA37