電解めっき処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-007158
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192896
出願日： 2000年01月14日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】アノード電極や遮蔽板等の処理槽付帯部品の交換や取付位置変更等の面倒な作業を行うことなく、様々な成膜状態の導電下地層を有する被めっき処理物に対して均一な膜厚分布の電解めっきを行うことができる電解めっき処理装置を提供すること。【解決手段】めっき処理槽11内にメインアノード13とサブアノード14を配置し、このメインアノード13とサブアノード14の電流制御を電流制御部16で独立的に行い、かつ電流制御条件を複数に変更可能とする。

請求項（抜粋）：

めっき処理槽内に複数のアノード電極を配置し、この複数のアノード電極のそれぞれに対して独立的に電流制御を行い、かつ電流制御条件を変更可能なことを特徴とする電解めっき処理装置。

IPC (3件)：

C25D 21/00 , C25D 7/12 , C25D 21/12

FI (3件)：

C25D 21/00 J , C25D 7/12 , C25D 21/12 A

Fターム (9件)：

4K024BA11 , 4K024BB12 , 4K024BC06 , 4K024CA05 , 4K024CB06 , 4K024CB08 , 4K024CB21 , 4K024CB24 , 4K024GA16

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平3-134195
特開平2-200800

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