特許

J-GLOBAL ID：200903052913235598

マスク保護装置

発明者： 藤田 稔 ,  中川 広秋
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 晃一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-208227
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048813
出願日： 1996年08月07日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課 題】マスクにマスク保護装置を装着した状態で検査光を集光レンズで集光させてマスクに直交させて照射し、その反射光で異物検査を行う方法において、検査精度を上げるため集光角を大きくしてもペリクル枠の枠際まで検査が可能であり、ペリクル枠の強度を損なわないマスク保護装置を提供する。【解決手段】ペリクル枠11の内側面を傾斜させて断面を台形に形成し、検査光が枠端面で干渉されることなく、スポット光が枠際まで当たるようにする。

請求項（抜粋）：

マスクパターンを囲う大きさのペリクル枠と、該枠の一側面に張設される透明な薄膜とからなるマスク保護装置において、ペリクル枠内側面を彎曲ないし傾斜させ、ペリクル枠がマスク側端面より薄膜に向かって漸次肉薄となるように形成したことを特徴とするマスク保護装置。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/14 K ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 P