特許
J-GLOBAL ID：200903052922216571
電子線描画装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027820
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226234
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【目的】連続移動描画を行なう電子線描画装置の偏向歪補正演算を実時間で行なう。【構成】偏向歪補正演算を、複数のプロセッサを用いて、主偏向歪補正演算と副偏向歪補正演算を階層別に分け、副偏向歪補正データを2面レジスタに切替てセットして要求発生時に一度の動作で設定する。前記階層間で相関関係のあるパラメータの転送を2ポートメモリを用いて行ないプロセッサを介在させない。【効果】プロセッサの処理を分散させ、処理時間を短縮した。プロセッサの外部の2面構成のレジスタによってデータ設定要求に対して瞬時にデータを設定することが可能。更に、パラメータをプロセッサを経由せずに転送することによってプロセッサの処理量を削減た。
請求項（抜粋）：
試料台を連続移動させて描画を行なう電子線描画装置であって電子ビームの位置偏向を2段の偏向器で構成する偏向器の偏向歪を階層的に補正する偏向歪補正回路において、電子ビームの目標座標と、連続移動する試料台の現在座標と、予め外部から設定される補正定数と、第1の階層で第1のプロセッサと複数の補助プロセッサで主偏向電子ビーム偏向量を算出する手段と、第2の階層で第2のプロセッサと複数の補助プロセッサで副偏向電子ビーム偏向量を算出する手段と、を具備したことを特徴とする電子線描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01J 37/147
, H01J 37/305
H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 341 D
