特許
J-GLOBAL ID：200903052922864638

地下汚染領域の浄化方法及び浄化装置

発明者：
江口 正浩

江口 正浩 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-355794
公開番号（公開出願番号）：特開2002-159959
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
要約：
【要約】【課題】 化学物質、特に有機塩素化合物で汚染された地下汚染領域を、短期間で、かつ低コスト、低エネルギーで浄化することができる方法及び装置を提供する。【解決手段】 まず、揚水手段2によって地下汚染領域X又はその付近から地下水Wを揚水する。次に、浄化手段4によって揚水した地下水の浄化処理(揚水ばっ気処理、酸化処理等)を行う。さらに、酸化剤添加手段6によって浄化処理した水に酸化剤(H2O2等)を添加する。その後、注入手段8によって酸化剤を添加した浄化処理水を再び地下汚染領域又はその付近に注入する。
請求項（抜粋）：
化学物質で汚染された地下汚染領域の浄化方法であって、地下汚染領域又はその付近から揚水した地下水の浄化処理を行うとともに、その浄化処理水に酸化剤を添加した後、該浄化処理水を再び地下汚染領域又はその付近に注入することを特徴とする地下汚染領域の浄化方法。
IPC (9件)：
B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 ZAB ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 ,  E02D 3/10 ,  C02F 1/00
FI (8件)：
A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/20 Z ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z ,  E02D 3/10 ,  C02F 1/00 K ,  B09B 3/00 304 K ,  B09B 3/00 ZAB
Fターム (43件)：
2D043DA00 ,  2D043EB06 ,  2E191BA12 ,  2E191BB01 ,  2E191BC01 ,  2E191BD11 ,  4D004AA41 ,  4D004AB06 ,  4D004AC05 ,  4D004AC07 ,  4D004CA12 ,  4D004CA35 ,  4D004CA36 ,  4D004CB05 ,  4D004CB42 ,  4D004CB43 ,  4D004CB44 ,  4D004CC03 ,  4D004CC06 ,  4D004CC11 ,  4D004CC12 ,  4D004DA02 ,  4D004DA20 ,  4D037AA01 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D037CA11 ,  4D037CA14 ,  4D038AA02 ,  4D038AB14 ,  4D038BA04 ,  4D038BB03 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D050AA02 ,  4D050AB19 ,  4D050BB09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA13
引用特許：
審査官引用 (5件)
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