特許

J-GLOBAL ID：200903052923894727

還元銀の製造方法

発明者： 成田 勝利
出願人/特許権者： 日鉱金属株式会社
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-131928
公開番号（公開出願番号）：特開平9-316559
出願日： 1996年05月27日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：

【要約】【課題】 脱銅したアノードスライムを塩化浸出して得られる粗塩化銀からの高品位の還元銀の簡便な製造方法の提供。【解決手段】 脱銅したアノードスライムに塩酸と過酸化水素とを添加して塩素浸出し、塩化浸出残査を分離する工程と、常温下で前記出残査にNa2CO3水を添加して脱Cl処理し、脱Cl残査を分離する工程と、湯水洗浄した前記脱Cl残査にNH3水を添加して浸出し、NH3浸出後液を分離する工程と、該液にH2SO4を添加して中和し、AgClを主成分として含む析出物を生成する工程と、塩酸と過酸化水素を添加して塩化処理し、塩化処理残査と処理後液に分離する工程と、前記析出物又は残査にNaOH水を添加して、含まれるAgClをAg2Oに変換する工程と、還元剤を添加して残査中のAg2OをAgに還元させる工程とを含む。

請求項（抜粋）：

脱銅したアノードスライムを塩化浸出して得られる粗塩化銀から高品位の還元銀を製造する方法において、脱銅したアノードスライムに塩酸と過酸化水素とを添加して塩素浸出をし、塩化浸出残査と浸出後液に分離する工程と、常温下で塩化浸出残査にNa2CO3を添加して脱Cl処理し、脱Cl残査と処理後液に分離する工程と、脱Cl残査にNH3を添加してNH3浸出し、浸出残査とNH3浸出後液に分離する工程と、NH3浸出後液にH2SO4を添加して中和し、AgClを主成分として含む析出物を生成する工程と、析出物に塩酸と過酸化水素を添加して塩化処理し、塩化処理残査と処理後液に分離する工程と、塩化処理残査にNaOHを添加して、残査中のAgClをAg2Oに変換する工程と、還元性の糖類、ヒドラジン等の還元剤を添加して、残査中のAg2OをAgに還元させる工程と、を含むことを特徴とする還元銀の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭53-019130
  
• 特開昭60-021340
  
• 特開昭53-116220
  
• 特開平2-247335