薄膜形成装置及び薄膜形成方法

発明者：
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-229492
公開番号（公開出願番号）：特開2003-038994
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2003年02月12日
要約：

【要約】【課題】材料溶液のミストを基材上に堆積させる場合の材料溶液の回収率を上げる。【解決手段】製膜室11の天井部16と本体部17にそれぞれ圧電振動子19,20を付け、製膜室11内に付着した材料溶液12を振り落とす。天井部16を本体部17から離脱させ、本体部17の開放上面から溶液溜まり部18に溜まった材料溶液12を回収する。

請求項（抜粋）：

製膜室の溶液溜まり部内の材料溶液を超音波振動子で霧化してミストを形成し、そのミストを所定の基材上に降り積もらせて薄膜を形成する薄膜形成装置であって、前記製膜室に、前記溶液溜まり部内の材料溶液を霧化して、内部の基材上に降り積もらせる前記ミストを生成する超音波振動子と、前記製膜室の天井部及び/または本体部に設置されて、その内面に付着した材料溶液を振動により振り落とすための振動手段とを備える薄膜形成装置。

IPC (8件)：

B05B 15/04 104 , B05B 15/12 , B05B 17/06 , B05D 3/00 , G09F 9/00 342 , G09F 9/30 365 , H05B 33/10 , H05B 33/14

FI (8件)：

B05B 15/04 104 , B05B 15/12 , B05B 17/06 , B05D 3/00 A , G09F 9/00 342 Z , G09F 9/30 365 Z , H05B 33/10 , H05B 33/14 A

Fターム (28件)：

3K007AB18 , 3K007EB00 , 3K007FA01 , 3K007FA03 , 4D073AA01 , 4D073BB01 , 4D073DD02 , 4D073DD40 , 4D074AA01 , 4D074BB02 , 4D074DD01 , 4D074DD03 , 4D074DD31 , 4D075AA71 , 4D075AA76 , 4D075BB13Z , 4D075DB13 , 4D075DC24 , 4D075EA45 , 5C094AA03 , 5C094BA29 , 5C094DA13 , 5G435AA17 , 5G435BB05 , 5G435KK05 , 5G435KK07 , 5G435KK09 , 5G435KK10

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