特許

J-GLOBAL ID：200903052929665754

配線基板の製造方法、及び配線基板

発明者： 伊藤 達也
出願人/特許権者： 日本特殊陶業株式会社
代理人 (1件)： 菅原 正倫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-209511
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079107
出願日： 2003年08月29日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】コア基板を有さず、高分子材料からなる誘電体層と導体層とが交互に積層された配線基板を容易に得ることが可能な製造方法と、それにより得られる配線基板を提供する。【解決手段】製造時における補強のための支持基板20上に形成された下地誘電体シート21の主表面上に、該主表面に包含されるよう配された、分離可能な2つの金属箔5a、5bが密着してなる金属箔密着体5と、該金属箔密着体5を包むよう形成され、かつ該金属箔密着体5の周囲領域21cにて下地誘電体シート21と密着して該金属箔密着体5を封止する第一誘電体シート11と、を有する積層シート体10を形成し、かつ第一誘電体シート11は、積層シート体10を構成する他の誘電体シートよりも破断強度が高い層を含む。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

コア基板を有さず、かつ両主表面が誘電体層にて構成されるよう、高分子材料からなる誘電体層と導体層とが交互に積層された配線基板を製造するために、 製造時における補強のための支持基板上に形成された下地誘電体シートの主表面上に、該主表面に包含されるよう配された、分離可能な2つの金属箔が密着してなる金属箔密着体と、該金属箔密着体を包むよう形成され、かつ該金属箔密着体の周囲領域にて前記下地誘電体シートと密着して該金属箔密着体を封止する第一誘電体シートと、を有する積層シート体を形成し、かつ前記第一誘電体シートは、前記積層シート体を構成する他の誘電体シートよりも破断強度が高い層を含むとともに、 前記積層シート体のうち、前記金属箔密着体上の領域を前記配線基板となるべき配線積層部として、その周囲部を除去し、該配線積層部の端面を露出させた後、前記配線積層部を前記支持基板から、片方の金属箔が付着した状態で、前記金属箔密着体における2つの金属箔の界面にて剥離することを特徴とする配線基板の製造方法。

IPC (2件)：

H05K3/46 ,  H01L23/12

FI (4件)：

H05K3/46 E ,  H05K3/46 T ,  H05K3/46 X ,  H01L23/12 501B

Fターム (22件)：

5E346AA12 ,  5E346AA15 ,  5E346AA32 ,  5E346CC09 ,  5E346CC10 ,  5E346CC32 ,  5E346DD02 ,  5E346DD12 ,  5E346DD32 ,  5E346EE33 ,  5E346FF01 ,  5E346FF04 ,  5E346FF07 ,  5E346FF13 ,  5E346GG14 ,  5E346GG15 ,  5E346GG17 ,  5E346GG22 ,  5E346GG28 ,  5E346HH07 ,  5E346HH25 ,  5E346HH33