特許

J-GLOBAL ID：200903052929823708

フォーカスモニタ用光学マスク、露光装置、および半導体装置の製造方法

発明者： 山下 重則
出願人/特許権者： 株式会社ルネサステクノロジ
代理人 (4件)： 村上 啓吾 ,  大岩 増雄 ,  児玉 俊英 ,  竹中 岑生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-042018
公開番号（公開出願番号）：特開2004-253589
出願日： 2003年02月20日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】半導体装置を製造する際に極めて簡単にフォーカスのずれ量、およびフォーカスずれの方向を同時に判断できるようにして、リアルタイムで適切なフォーカスに補正できるようにする。【解決手段】基板21上には、露光パターン形成用の2つの窓22,23の周囲に位相シフタ25,26が形成されており、各位相シフタ25,26により生じる各位相差は、フォーカスを順次ずらせて半導体ウェハ上に窓22,23を通過した光による各露光パターンを形成した場合に得られる2つのパターン寸法の変化曲線A1,A2の差A3がフォーカスずれに対して単純増加あるいは単純減少となる変化特性を示す値となるようにそれぞれ設定されている。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板上には、露光パターン形成用の2つの窓が設けられるとともに、これらの各窓とその周囲を通過した光とで位相差が生じるように位相シフタが形成されており、かつ、各々の位相シフタにより生じる各位相差は、フォーカスを順次ずらせて半導体ウェハ上に上記窓を通過した光による各露光パターンを形成した場合に得られる2つのパターン寸法の変化曲線の差がフォーカスずれに対して単純増加あるいは単純減少となる変化特性を示す値となるようにそれぞれ設定されていることを特徴とするフォーカスモニタ用光学マスク。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G01B11/02 ,  G03F1/08

FI (4件)：

H01L21/30 526Z ,  G01B11/02 H ,  G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P

Fターム (15件)：

2F065AA20 ,  2F065AA22 ,  2F065CC17 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2H095BA01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB03 ,  5F046CB17 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05