特許
J-GLOBAL ID:200903052930977190

浸透性放射線を利用する断層撮像法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八木田 茂 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-335020
公開番号(公開出願番号):特開2000-157525
出願日: 1999年11月25日
公開日(公表日): 2000年06月13日
要約:
【要約】 (修正有)【解決手段】平板放射線検出器18は、放射線源14から遠くになる目標物10の反対側に静止状態で配置される。移動システム16は、目標物に対して放射線源を移動する。放射線源の各位置で、X線ビームの中心線が検出器18と対応するロケーションで衝突する。放射線源の位置毎に、焦平面に位置する目標物の画像は、放射線源がにあるとき画像の基準位置に対するベクトル変位だけオフセットする。プロセッサ28は、焦平面L1,L2,...のそれぞれに対応する異なるベクトル変位だけ各ビューをシフトし、補間し、それらの画像を統合して、ボリューム画像メモリ30内に格納される一連のスライス画像表現を発生する。【効果】複数の層を処理するためのデータを同時に発生させることができ、断層画像を高速かつ容易に再構成できる。
請求項(抜粋):
目標物(10)の対象領域の診断画像を発生する方法であって、放射線源から浸透性放射線を前記対象領域を貫通させて投射するステップと、放射線検出面上で前記目標物(10)を貫通した前記放射線を受容し、受容された放射線を前記検出面上での前記受容放射線の変化を示す電子ビュー(64)に変換するステップと、前記検出器面と平行であり且つ前記対象領域内にある複数の焦平面(Ln)のそれぞれを通過する前記放射線源(14)からの放射線が、互いに重ねられ、オフセットされた前記検出器上に衝突するように前記対象領域に対する複数の位置間で前記放射線源(14)を巡回させるステップと、第1の選択された焦平面(L1)上の各増分要素(O)を通過する前記放射線が電子ビューの共通ピクセルに寄与するように、前記第1選択焦平面の前記電子ビューをシフト(74)するステップと、前記第1選択焦平面(L1)上の増分要素(O)に対応する各電子ビューのピクセルが合計(76)されて前記第1選択焦平面(L1)についてのスライス画像を発生し、前記第1選択焦平面(L1)から離れた前記対象領域の増分要素(O')に帰因する放射線減衰がピクセル間に相反するように分布されて背景のぼけを形成するように、前記電子ビューを合計(76)するステップとを含む方法。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 画像処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-091436   出願人:富士写真フイルム株式会社
  • 特開昭63-261342
  • 特開昭63-261342
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