研磨用合成物および研磨方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：辻本一義
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-501033
公開番号（公開出願番号）：特表平8-510437
出願日： 1994年05月25日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】金属とシリカの複合材を含む、シリコン、シリカ、あるいはケイ酸塩を含有する材料を研磨するための、水性媒体、研磨粒子、酸化剤、及び、シリカ除去速度を抑える陰イオンからなる改良された合成物を提供する。陰イオンは、少なくとも2つの酸グループを含み、第1の解離可能酸のpKaが、研磨合成物のpHより大幅には大きくない化合物から得られる。さらに、加工品の表面を研磨し、平坦化するための合成物を使用する方法及びこの方法から製造される製品を提供する。

請求項（抜粋）：

水性媒体、研磨粒子、酸化剤、およびシリカの除去速度を抑制する一つあるいは複数の化合物から成る、金属とシリカの複合材を研磨する合成物であって、前記各化合物が少なくとも2つの酸グループを有し、第1の解離可能酸のpKaが研磨合成物のpHより大幅には大きくない研磨合成物。

IPC (5件)：

C04B 41/91 , B24B 37/00 , C23F 1/24 , C23F 1/30 , H01L 21/304 321

FI (5件)：

C04B 41/91 Z , B24B 37/00 H , C23F 1/24 , C23F 1/30 , H01L 21/304 321 P

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-101034
特開平2-278822
特開平2-109332

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