特許

J-GLOBAL ID：200903052941179130

走査型露光装置

発明者： 青砥 和明 ,  西 健爾
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-197700
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041215
出願日： 1996年07月26日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：

【要約】【課題】 マスクパターンの全領域をベストフォーカス状態で感光基板上に露光する。【解決手段】 小さな照明領域に対してマスクを走査するのと同期して、その照明領域と光学的に共役な露光領域23に対して感光基板PTを走査する。さらに、マスク及び感光基板の走査方向と交差する方向に照明領域を走査することにより、マスクのパターン全体を感光基板上に走査露光する。このとき感光基板PT上に形成される露光領域23は、感光基板PT上をジグザグ走査(A)、又は一方向走査(B)するので、その小さな露光領域に対して逐次フォーカス調整を実行する。

請求項（抜粋）：

露光用光源からの照明光で転写用のパターンが形成されたマスク上の照明領域を照明し、前記照明領域に対して前記マスクを第1の方向に走査するのと同期して前記照明領域と光学的に共役な露光領域に対して感光基板を前記第1の方向に平行に走査することにより、前記マスクのパターンを逐次前記感光基板上に露光する走査型露光装置において、前記第1の方向と略直交する第2の方向に前記照明領域を走査する照明領域走査手段を備えることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00

FI (7件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 T ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 515 E ,  H01L 21/30 516 B