特許

J-GLOBAL ID：200903052954513020

ドライエッチング装置とプラズマ化学的気相堆積装置

発明者： 福島 信人
出願人/特許権者： シチズン時計株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-252256
公開番号（公開出願番号）：特開平11-092968
出願日： 1997年09月17日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：

【要約】【課題】 高効率で均一性に優れてドライエッチング装置とプラズマCVD装置を提供する。【解決手段】 1ターンのプラズマ励起用アンテナを備えた誘導結合型プラズマ(ICP)装置であり、モーターなどによりアンテナを回転させることにより、アンテナの非対称性に起因するプラズマの不均一性を補正する。これにより、1ターン型ICP装置の効率を下げることなく均一性を向上させることができる。ドライエッチング、プラズマCVDなどに応用できる。

請求項（抜粋）：

1組以上の真空排気用ポンプにより排気され、エッチングに必要な反応性ガスや支援ガス等が導入できるポートを備えた密閉されたチャンバーから構成され、前記チャンバーの一部は水晶などの誘電体で構成されており、大気側に設けられた高周波が印加されたアンテナより該誘電体を通介してチャンバー内に導入されたガスをプラズマ化し、さらにチャンバー内部に設置された被エッチング基板がセットされた電極に、別の高周波を印加することにより、当該被エッチング基板をエッチングするエッチング装置であり、前記アンテナが回転することを特徴とするドライエッチング装置。

IPC (6件)：

C23F 4/00 ,  C23C 16/50 ,  G11B 5/31 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

C23F 4/00 A ,  C23C 16/50 ,  G11B 5/31 M ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/302 B