特許
J-GLOBAL ID：200903052954686065
パターン検出方法および検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-068951
公開番号（公開出願番号）：特開平5-272941
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】本発明は、設計データと観察画像データの濃淡レベルの精度の高い比較検査の行えるパターン検出方法および検査装置を提供することを目的とする。【構成】設計データとウエハの観察画像データとを比較してウエハのパターン欠陥を検出するパターン検査装置において、観察画像データの中から検査に必要なレジスト部分とその他のバックグランドの部分とにパターンを区分する検査対象抽出回路8と、バックグランドの部分の輝度を低下させて検査に必要なレジスト部分のデータを得るバックグランド処理回路9と、設計データを多値データに変換する変換装置16と、この変換装置16により得られた多値の基準データと、バックグランド処理回路9により得られた観察画像データとを比較する比較判定回路15とから構成されることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
基準データと検査対象物の観察画像データとを比較して該観察画像データのパターン欠陥を検出するパターン検査装置において、前記観察画像データの中から検査に必要なパターン部分とバックグランドの部分とにパターンを区分する検査対象抽出手段と、前記バックグランドの部分に対して前記必要なパターン部分を相対的に強調するバックグランド処理手段と、前記基準データを多値データに変換する変換手段と、この変換手段により得られた多値の基準データと、前記バックグランド処理手段により得られた観察画像データとを比較する比較手段と、から構成されることを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G03F 1/08
, H01L 21/027
