特許

J-GLOBAL ID：200903052954993219

光デイスクの製造方法

発明者： 堀籠 信吉 ,  宮村 芳徳 ,  安齋 由美子 ,  加藤 恵三 ,  白石 洋
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-222692
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062254
出願日： 1991年09月03日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【目的】将来の電子出版物として光ディスクが期待されているが、従来技術では生産速度が遅くこれに応えることができない。本発明はこの問題を解決する光ディスクの製造方法を提供するものである。【構成】図1に示すようにシリコン等の基板にクロムマスクを用いて密着露光、エッチングなどのリソグラフイ技術により短時間で多数枚のスタンパを作ることができる。この多数枚のスタンパを用いることにより高速で大量にレプリカ基板の転写が可能となる。【効果】本発明により、従来のニッケルスタンパ、射出成形法に比較して少なくとも10倍以上の速度で光ディスクを製造することができる。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト膜付シリコン、石英、ガラスまたは金属からなる基板のフォトレジスト膜に露光、現像、エッチング処理を施して得られるスタンパから紫外線硬化樹脂を用いて透明樹脂基板に光ディスクの情報パターンを転写させて光ディスクのレプリカ基板を作製する工程を有する光ディスクの製造方法において、上記露光が、光ディスクの情報パターンを有する光非透過性マスク付基板のマスク側の面を上記フォトレジスト膜付基板のレジスト側の面に密着させて行われることを特徴とする光ディスクの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 511 ,  B29C 33/38 ,  B29L 17:00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-251451
  
• 特開平1-188332
  
• 特開平2-024848
  
• 特開平2-054447