特許

J-GLOBAL ID：200903052970581923

ガス状汚染物質の除去方法及び除去装置

発明者： 井上 実 ,  渋谷 幸徳 ,  若松 潤一
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社 ,  株式会社トーヨコ理研 ,  株式会社トーヨコグループ技術研究所
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-093316
公開番号（公開出願番号）：特開平10-277355
出願日： 1997年04月11日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】 ガス状汚染物質の除去方法及び除去装置に関し、粒子化によるガス状汚染物質の除去を効率良く、且つ、低コストで行う。【解決手段】 被清浄化気体に含まれるガス状汚染物質を粒子化して粒子化汚染物質を形成したのち、粒子化汚染物質を含む被清浄化気体を冷却して凝縮し、凝縮した粒子化汚染物質を含む被清浄化気体から粒子化汚染物質を除去する。

請求項（抜粋）：

被清浄化気体に含まれるガス状汚染物質を粒子化して粒子化汚染物質を形成する工程、前記粒子化汚染物質を含む被清浄化気体を冷却して凝縮する工程、前記凝縮した粒子化汚染物質を含む被清浄化気体から粒子化汚染物質を除去する工程を含むことを特徴とするガス状汚染物質の除去方法。

IPC (5件)：

B01D 53/34 ,  B01D 46/00 ,  B01D 51/00 ,  B01D 51/02 ,  B01D 53/32

FI (5件)：

B01D 53/34 Z ,  B01D 46/00 Z ,  B01D 51/00 D ,  B01D 51/02 ,  B01D 53/32