特許

J-GLOBAL ID：200903052988365241

高分子ラジカル重合開始剤、その製造方法およびそれを用いて得られるグラフトポリマー

発明者： 林 昌樹 ,  中村 知之 ,  氏川 典久
出願人/特許権者： 日本油脂株式会社
代理人 (1件)： 後呂 和男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-242052
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064308
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【課題】 新規なラジカル重合開始剤を提供し、安定なグラフトポリマーを高純度で生成する。【解決手段】 下記一般式(1)【化1】......(1)(式中、R1は未置換または環に置換基を有するフェニレン基、R2は水素、炭素数4〜8の第三級アルキル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイル基、またはR9OC(O)-基であり、ここでR9は炭素数1〜10の直鎖もしくは分岐のアルキル基またはアルコキシアルキル基、あるいは未置換または環に置換基を有するシクロアルキル基を表わす。R3〜R8はそれぞれ独立に選択される炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐のアルキル基またはR3とR6が連結した炭素数が4〜10の環式構造である。ただし、環式構造の場合には、未置換または、アルキル基、ヒドロキシ基、アセトキシル基、ベンゾイルオキシ基、メトキシ基もしくはオキソ基により置換されたものである)のアルコキシアミンペンダント基含有高分子ラジカル重合開始剤。

請求項（抜粋）：

ラジカル重合性単量体を重合してなる高分子量体であって、その主鎖から下記一般式(1)【化1】......(1)(式中、R1は未置換または環に置換基を有するフェニレン基、R2は水素、炭素数4〜8の第三級アルキル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイル基、またはR9OC(O)-基であり、ここでR9は炭素数1〜10の直鎖もしくは分岐のアルキル基またはアルコキシアルキル基、あるいは未置換または環に置換基を有するシクロアルキル基を表わす。R3〜R8はそれぞれ独立に選択される炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐のアルキル基またはR3とR6が連結した炭素数が4〜10の環式構造である。ただし、環式構造の場合には、未置換または、アルキル基、ヒドロキシ基、アセトキシル基、ベンゾイルオキシ基、メトキシ基もしくはオキソ基により置換されたものである。)で表されるアルコキシアミン基が懸垂している高分子ラジカル重合開始剤。

IPC (3件)：

C08F 4/00 ,  C08F212/14 ,  C08F291/00

FI (3件)：

C08F 4/00 ,  C08F212/14 ,  C08F291/00

Fターム (42件)：

4J015EA04 ,  4J026AA00 ,  4J026AA19 ,  4J026AC26 ,  4J026BA05 ,  4J026BA27 ,  4J026BB01 ,  4J026BB02 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07P ,  4J100AB08Q ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AK31Q ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL34Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM15Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AM19Q ,  4J100AQ12Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA15P ,  4J100BA29Q ,  4J100BA42Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100BC54Q ,  4J100BC69P ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA28

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-329642   出願人：ジェイエスアール株式会社
• ビニル基含有アルコキシアミンおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-177422   出願人：日本油脂株式会社