特許

J-GLOBAL ID：200903053001649444

紫外線処理装置

発明者： 坂元 弘実 ,  細谷 浩二
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118335
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283501
出願日： 1996年04月15日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】 オゾン処理後に排ガス中に残存するオゾンを除去するため、排ガスを直接オゾン分解装置に通すと、排ガス成分が触媒表面に付着し、オゾン分解性能を低下させるという問題があり、オゾン分解装置の前に排ガスを加熱分解する加熱手段を配設するものもあるが、400〜500°Cを要するため装置が大型となるという問題があった。【解決手段】 加熱しながら紫外線とオゾンあるいは不活性ガスによりレジストの分解を行う紫外線処理装置において、処理後の排ガスは先ず有機物分解触媒によりレジストの未分解生成物を分解し、オゾン分解フィルターを通して外部に放出する構成とする。

請求項（抜粋）：

加熱しながら紫外線とオゾンあるいは不活性ガスによりレジストの分解を行う紫外線処理装置において、処理後の排ガスは有機物分解触媒によりレジストの未分解生成物を分解し、オゾン分解フィルターを通して外部に放出することを特徴とする紫外線処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/302 H ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/30 572 A