特許
J-GLOBAL ID：200903053009986130
プロセス・モジュールにおいてプラズマを点火する装置並びに方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 喜樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-006678
公開番号（公開出願番号）：特開平7-278821
出願日： 1995年01月19日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：
【要約】【目的】 サンプルを反応性プラズマに曝す装置並びに方法の改善をはかり、プロセス・モジュール内でのプラズマ点火を効率よく行う。【構成】 本発明のシステムは、一対の電極と、電極の内一つに連結される高周波発生器と、を備える。一対の電極間に注入されたガスはイオン化され、プラズマに変換される。本発明のシステムは、(1)約1センチメートル未満の小さなギャップを介して隔てて配置される一対の電極間で、シラン等のガスをイオン化する点火手段と、(2)分子をプラズマに変換させる高周波、例えば60MHz、で作動する高周波エネルギー発生器と、を備える。点火手段としては、電子源、紫外線源、第二高周波エネルギー発生器、放射線源等が挙げられる。本発明に従って構成される、わずかなギャップを介して配置される電極対を有するプロセス・モジュールは、高周波エネルギーを用いた高速度での蒸着を可能にし、高い生産効率を実現する。
請求項（抜粋）：
反応性プラズマにサンプルを曝すためのプラズマ・プロセス・モジュールにおいて、前記モジュール内に備えられる第一高周波電極と、前記第一電極から間隔をおいて前記モジュール内に備えられる第二高周波電極で、両電極間に約1センチメートル未満のほぼ均一なギャップを形成するように配置される第二高周波電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に注入されるガスをイオン化する手段と、注入されたガスの分子をプラズマに変える第一高周波発生手段で、前記第二電極に連結されて、第一周波数を発生する第一高周波発生手段と、を備えることを特徴とするプラズマ・プロセス・モジュール。
IPC (5件)：
C23C 16/50
, C23C 14/34
, C23C 16/48
, C23F 4/00
, H05H 1/46
