特許

J-GLOBAL ID：200903053014993292

有機基含有シリカゲル

発明者： 森 寛 ,  加藤 波奈子 ,  山口 隆
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-338924
公開番号（公開出願番号）：特開2003-231755
出願日： 2002年11月22日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：

【要約】【課題】 目的とする有機基を高濃度で含有するとともに、不純物金属量が少なく、シャープな細孔分布を示し、耐熱性、耐水性、物性安定性等にも優れ、且つ生産性に優れるようにする。【解決手段】 (a)細孔容積が0.5〜1.6ml/g、(b)比表面積が300〜1000m2/g、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の40%以上、(e)非晶質であり、(f)金属不純物の総含有率が500ppm以下であり、且つ、(g)全ケイ素原子のうち炭素原子と直接結合したケイ素原子の割合が、0.1%以上となるようにする。

請求項（抜粋）：

(a)細孔容積が0.5〜1.6ml/gであり、(b)比表面積が300〜1000m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の40%以上であり、(e)非晶質であり、(f)金属不純物の総含有率が500ppm以下であり、且つ、(g)全ケイ素原子のうち炭素原子と直接結合したケイ素原子の割合が、0.1%以上であることを特徴とする、有機基含有シリカゲル。

IPC (3件)：

C08G 77/06 ,  C01B 33/18 ,  C08G 77/02

FI (3件)：

C08G 77/06 ,  C01B 33/18 C ,  C08G 77/02

Fターム (26件)：

4G072AA41 ,  4G072CC10 ,  4G072GG02 ,  4G072HH19 ,  4G072JJ47 ,  4G072MM01 ,  4G072QQ06 ,  4G072QQ07 ,  4G072QQ09 ,  4G072TT01 ,  4G072TT06 ,  4G072TT09 ,  4G072UU15 ,  4J246AA02 ,  4J246AA19 ,  4J246AB14 ,  4J246BA210 ,  4J246BA230 ,  4J246BB020 ,  4J246CA010 ,  4J246CA240 ,  4J246FA061 ,  4J246GB32 ,  4J246HA08 ,  4J246HA10 ,  4J246HA58

引用特許：

出願人引用 (2件)

• シランオリゴマー組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-082100   出願人：チッソ株式会社, 三菱化学株式会社
• 塗料組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-213052   出願人：関西ペイント株式会社, 信越化学工業株式会社