特許

J-GLOBAL ID：200903053026559296

有害塩素化合物の無害化処理装置

発明者： 蘆立 修一 ,  西澤 克志 ,  向井 成彦 ,  田嶋 直樹 ,  花井 宏維 ,  島田 秀樹
出願人/特許権者： 東京電力株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 猪股 祥晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-101003
公開番号（公開出願番号）：特開平6-304407
出願日： 1993年04月27日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】【目的】光照射する塩素化合物混合溶液の脱酸素を行って光反応効率を高める。【構成】PCB混入物質1から抽出した抽出PCB2にアルコール8とアルカリ9としてNaOHを加えて溶液混合器10で混合する。この混合溶液11を前処理装置12で処理して混合溶液11中の酸素を除去する。前処理装置12は乾燥窒素ガス13が流通している。処理された混合溶液11は光反応器17へ導かれレーザー光18の照射を受ける。光反応処理後溶液19は反応促進容器20に格納して連鎖反応を促進させたのち、溶液分離器21で反応生成物中のNaCl22、アセトン23、その他ビフェニル等のPCBなし生成物24、残留PCBおよびPCBの混入した反応生成物に分離する。これらの生成物はPCB分析モニター装置6で検査される。

請求項（抜粋）：

有害塩素化合物をアルカリ性アルコールに混合した溶液に光を照射して、光誘起化学反応させて塩素化合物を分解する装置において、前記光照射前の溶液から光誘起化学反応を阻害する酸素を除去する脱酸素装置を設けてなることを特徴とする有害塩素化合物の無害化処理装置。

IPC (3件)：

B01D 19/00 ,  B01D 19/00 101 ,  A62D 3/00 ZAB

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭52-047459
  
• 特公昭52-047459
  
• 特公昭52-047459
  
• 特公昭52-047459