特許

J-GLOBAL ID：200903053033968380

ガスハイドレート製造方法及び装置

発明者： 内田 和男 ,  鈴木 剛 ,  神田 肇
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (3件)： 小川 信一 ,  野口 賢照 ,  斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-267087
公開番号（公開出願番号）：特開2004-099831
出願日： 2002年09月12日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】乾いた粉末状のガスハイドレートを連続的に、かつ、効率的に製造するガスハイドレート製造方法を提供する。【解決手段】生成水cを低温の反応槽1内に噴霧して微細な氷dを生成し、この微細氷dを反応槽1内に導入した天然ガスbと反応させて、その表面にガスハイドレートの一次生成層eを形成する。この一次生成層eを破砕手段7によって剥離又は破砕して粉末状のガスハイドレートgを生成し、この粉末状ガスハイドレートgを分離器13によって未反応の天然ガスbから分離して回収する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

生成水を低温の反応槽内に噴霧して微細な氷を生成し、この微細氷を反応槽内に導入した天然ガスと反応させて、その表面にガスハイドレートの一次生成層を形成し、この一次生成層を破砕手段によって剥離又は破砕して粉末状のガスハイドレートを生成し、この粉末状ガスハイドレートを分離器によって未反応の天然ガスから分離して回収することを特徴とするガスハイドレート製造方法。

IPC (5件)：

C10L3/06 ,  C07B61/00 ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04

FI (5件)：

C10L3/00 A ,  C07B61/00 C ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04

Fターム (3件)：

4H006AA02 ,  4H006AC90 ,  4H006BD84