特許
J-GLOBAL ID：200903053034611973
成膜装置とそのターゲット交換方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-253432
公開番号（公開出願番号）：特開平10-147863
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 反応室用真空槽内に大気を流入させることなくターゲットを交換する成膜装置とそのターゲット交換方法とを提供する。【解決手段】 反応室用真空槽6及びターゲット交換室1を真空排気した状態で、ターゲット交換手段4により交換用ターゲット3を保持する電極板3aと開口部15上の使用済みターゲット2を保持する電極板2aを上昇させ、ターゲット交換手段4の回動により使用済みターゲット2と交換用ターゲット3とを入れ換え交換する。交換されたターゲット3を保持する電極板3aを電流導入プレート13の押圧により開口部15に圧接させることにより反応室6は閉じられ、成膜を再開することができる。
請求項（抜粋）：
反応室用真空槽と、この反応室用真空槽のターゲット出入用開閉部を包囲するターゲット交換室と、ターゲット交換室内を真空排気する真空排気手段と、ターゲット交換室内に配置され、ターゲット出入用開閉部の開口時に、反応室用真空槽で使用されたターゲットとターゲット交換室内に予め配置した交換用ターゲットとを交換するターゲット交換手段とを備えたことを特徴とする成膜装置。
引用特許：
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