特許
J-GLOBAL ID：200903053045416536
ガスの固定化処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-340230
公開番号（公開出願番号）：特開平11-174195
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 スパッタ電極が所定量以上消耗すると固定化処理を停止し、安全性を確保できるガスの固定化処理装置を提供する。【解決手段】 このガス固定化処理装置は、被処理ガスが導入される密閉構造の固定化容器と、この固定化容器内に設けられたイオン注入電極となる外側陰極と、この外側陰極に対向して配置されたスパッタ電極となる内側陰極と、これら両電極に高電圧を供給する高圧電源とを備え、両電極間に被処理ガスを導入し、グロー放電を発生させることによって被処理ガスをイオン化し、このイオン化されたガスを外側陰極表面に形成されたスパッタ金属の固化層中に注入して固定化を行うものである。そして、この固定化処理装置は、内側陰極にこの電極の消耗度合を検出する検出手段が設けられている。
請求項（抜粋）：
被処理ガスが導入される密閉構造の固定化容器と、この固定化容器内に設けられ負の電圧が印荷されるイオン注入電極と、このイオン注入電極に対向して配置され負の高電圧が印荷されるスパッタ電極と、これら両電極に高電圧を供給する高圧電源とを備え、前記両電極間に前記被処理ガスを導入し、グロー放電を発生させることによって前記被処理ガスをイオン化し、このイオン化されたガスを前記イオン注入電極表面に形成されたスパッタ金属の固化層中に注入して固定化するガス固定化処理装置において、前記スパッタ電極に、この電極の消耗度合を検出する検出手段を設けたことを特徴とするガスの固定化処理装置。
IPC (2件)：
G21F 9/02 561
, G21F 9/02 ZAB
G21F 9/02 561 B
, G21F 9/02 ZAB
