特許
J-GLOBAL ID：200903053047884952
加工物の表面の欠陥を検出するためのシステムと方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
越川 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-312424
公開番号（公開出願番号）：特開2001-153810
出願日： 2000年10月12日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】加工物の表面上の欠陥を検出する。【解決手段】表面検査システム10には、加工物の表面上に細長い光線を放出するための拡散光源22、光源に対して相対的に加工物25を移動させるための部材26、画像装置24、モデルデータを格納するためのデータ構造、画像データにおける少なくとも1つの潜在的に存在している表面の欠陥を同定するための異常検出モジュール28と、データ構造とモデルデータを使用することにより潜在的に存在している表面の欠陥が加工物の表面における欠陥を構成する場合には評価する欠陥追跡モジュール30とが含まれる。
請求項（抜粋）：
加工物の表面上の欠陥を検出するための表面検査システムであって、加工物の表面上に細長い光線を放出するための拡散光源と、前記光源に対して相対的に加工物を移動するための移動可能な部材と、加工物の表面の一部分を表わす画像データの2つまたはそれ以上のセットを捕捉するための画像装置であって、観察視野を有し、また、光線が観察視野内にあるように、眺望のきく地点に位置決め可能である前記画像装置と、加工物の表面の前記部分と前記画像装置の観察平面の間の空間的な関係を示すモデルデータを格納するデータ構造と、前記画像装置から少なくとも画像データの第1セットと、画像データの第2セットを受け取るように適応された異常検出サブシステムであって、前記画像データの第1セットと前記画像データの第2セットにおける少なくとも1つの潜在的に存在している表面の欠陥を同定する前記異常検出モジュールと、前記モデルデータを使用して前記画像データの第1セットから前記画像データの第2セットまで潜在的に存在している表面の欠陥を追跡するための前記データ構造と前記異常検出モジュールに連結された追跡サブシステムであって、それによって、潜在的に存在している表面の欠陥が加工物の表面において欠陥を構成する場合に評価する前記追跡サブシステムと、から成る前記表面検査システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/89 S
, G01B 11/30 A
