特許
J-GLOBAL ID：200903053067892374
生体用インプラント部品およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-186930
公開番号（公開出願番号）：特開平8-056963
出願日： 1994年08月09日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】【目的】 機械的強度、化学的安定性、耐食性、非毒性、生体親和性、密着性等の点で優れた特性を有するハイドロキシアパタイト、或はこれに近い組成を有する物質を蒸着させた生体用インプラント部品およびその製造方法を提供する。【構成】 高真空中で、ターゲット物質である酸化カルシウムおよび燐を含む化合物であるアパタイト系物質14にイオン源15からスパッタリング用イオンビームを照射する一方で、この照射と同時に、或は交互に基材19に向けてイオン源21からアシスト用イオンビームを照射し、基材19の表面を覆う雰囲気中の酸素、-OH基の量を制御しつつアパタイト系物質14を上記表面に蒸着させて薄膜を形成するようにしてある。
請求項（抜粋）：
基材の表面に酸化カルシウムおよび燐を含む化合物を蒸着させて薄膜を形成するとともに、上記基材と上記薄膜との界面部に原子混合層を形成したことを特徴とする生体用インプラント部品。
IPC (6件)：
A61C 8/00
, A61F 2/28
, A61L 27/00
, C23C 14/06
, C23C 14/24
, C23C 14/46
