特許
J-GLOBAL ID：200903053069314084
水溶性フォトレジストパターンの硬膜処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-035605
公開番号（公開出願番号）：特開平5-241353
出願日： 1992年01月27日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【目的】 取扱い性、有害性に問題のない水溶性フォトレジスト用の硬膜処理方法を提供する。【構成】 カゼインを主成分とする水溶性フォトレジストパターンを硬膜剤で処理後加熱することにより、該レジストパターンの耐食性皮膜を強化する方法において、炭酸ジルコニウムアンモニウムを主成分とする水溶液を硬膜剤として使用することを特徴とする。【効果】 取扱い性、有害性に問題がなく、エッチファクターの大きくなる硬膜処理ができるとともに、従来の硬膜剤で生じていたいクロムによる排水公害等の問題が解決される。
請求項（抜粋）：
カゼインを主成分とする水溶性フォトレジストパターンを硬膜剤で処理後加熱することにより該レジストパターンの耐食性皮膜を強化する方法において、炭酸ジルコニウムアンモニウムを主成分とする水溶液を硬膜剤として用いることを特徴とする水溶性フォトレジストの硬膜処理方法。
IPC (2件)：
G03F 7/40 502
, H01L 21/027
