特許

J-GLOBAL ID：200903053070042144

周辺露光装置

発明者： 大森 太郎
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-040617
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217886
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】 露光光学系側の移動に伴う塵埃発生に起因する歩留り低下を防止しまた移動に伴う露光光学系側のファイバ破損等を防止した周辺露光装置を提供する。【構成】 被露光基板1を載置する基板ステージ3、4、5と、該基板ステージ上に載置された上記露光基板の周辺部を露光するための露光部9、10と、上記基板ステージ上に搭載された上記被露光基板を所定の位置に位置合わせするために上記被露光基板の位置を検出する位置測定手段7、8を有する周辺露光装置において、上記測定手段により測定された上記被露光基板の位置情報に基づき、上記基板ステージを移動して上記露光部からの光束を上記被露光基板の周辺に照射し周辺露光を行う。

請求項（抜粋）：

被露光基板を載置する基板ステージと、該基板ステージ上に載置された上記露光基板の周辺部を露光するための露光部と、上記基板ステージ上に搭載された上記被露光基板を所定の位置に位置合わせするために上記被露光基板の位置を検出する位置測定手段を有する周辺露光装置において、上記測定手段により測定された上記被露光基板の位置情報に基づき、上記基板ステージを移動して上記露光部からの光束を上記被露光基板の周辺に照射し周辺露光を行うことを特徴とする周辺露光装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-288326
  
• 特開平3-080528
  
• 特開平3-203312