大型基板の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-249820
公開番号（公開出願番号）：特開2004-359544
出願日： 2004年08月30日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【解決手段】予め対角長が500mm以上の大型基板の平坦度を該大型基板を垂直保持して測定し、そのデータを基に基板の凸部分をサンドブラストにより部分的に除去して、上記大型基板の平坦度を高めて、平坦度/対角長が6.0×10-6以下である対角長が500mm以上の大型基板を得ることを特徴とする大型基板の製造方法。【効果】本発明の加工方法により安定して高平坦度の大型フォトマスク用基板を取得することが可能となる。パネル露光時のCD精度(寸法精度)が向上することで微細パターンの露光が可能となり、パネルの歩留まりの向上にもつながる。更に、本発明の加工方法を応用することで、任意の形状の表面形状を創生することも可能となる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

予め対角長が500mm以上の大型基板の平坦度を該大型基板を垂直保持して測定し、そのデータを基に基板の凸部分をサンドブラストにより部分的に除去して、上記大型基板の平坦度を高めて、平坦度/対角長が6.0×10-6以下である対角長が500mm以上の大型基板を得ることを特徴とする大型基板の製造方法。

IPC (3件)：

C03C19/00 , G02F1/1333 , G03F1/14

FI (3件)：

C03C19/00 A , G02F1/1333 500 , G03F1/14 B

Fターム (8件)：

2H090JB02 , 2H090JC01 , 2H090JD14 , 2H095BA12 , 2H095BC28 , 4G059AA01 , 4G059AA08 , 4G059AC03

引用特許：

審査官引用 (2件)

円板の表面形状測定方法および厚み測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-096558 出願人：黒田精工株式会社, 株式会社スーパーシリコン研究所
磁気媒体用ガラス基材及びそのようなガラス基材に基く磁気媒体
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-550749 出願人：ショットグラステクノロジーズインコーポレイテッド

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