特許

J-GLOBAL ID：200903053074376098

感光性材料

発明者： 草香 央 ,  副島 裕司
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-144956
公開番号（公開出願番号）：特開2001-324804
出願日： 2000年05月17日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：

【要約】【課題】 ソルダーレジスト膜や各種電子部品の絶縁樹脂層の形成に有用な材料であって、安定性、現像性、硬化性、耐薬品性等の性能に優れた感光性材料を提供する。【解決手段】 下記(A)、(B)、(C)及び(D)を含有してなる感光性材料。(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に1個以上の重合性不飽和基と1個のカルボキシル基を有する化合物(b)及び1分子中に1個以上の水酸基と1個のカルボキシル基を有する化合物(c)の反応物に多塩基酸無水物(d)を反応させることにより得られるプレポリマー、(B)光重合開始剤、(C)反応性希釈剤、(D)ブロック化イソシアネート。

請求項（抜粋）：

下記(A)、(B)、(C)及び(D)を含有してなる感光性材料。(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に1個以上の重合性不飽和基と1個のカルボキシル基を有する化合物(b)及び1分子中に1個以上の水酸基と1個のカルボキシル基を有する化合物(c)の反応物に多塩基酸無水物(d)を反応させることにより得られるプレポリマー、(B)光重合開始剤、(C)反応性希釈剤、(D)ブロック化イソシアネート。

IPC (4件)：

G03F 7/027 515 ,  C08G 18/58 ,  C08G 18/80 ,  G03F 7/004 501

FI (4件)：

G03F 7/027 515 ,  C08G 18/58 ,  C08G 18/80 ,  G03F 7/004 501

Fターム (64件)：

2H025AA04 ,  2H025AA06 ,  2H025AA14 ,  2H025AA20 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC31 ,  2H025BC74 ,  2H025BC83 ,  2H025BC86 ,  2H025CA00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29 ,  4J034BA09 ,  4J034DA01 ,  4J034DA05 ,  4J034DB05 ,  4J034DB08 ,  4J034DC02 ,  4J034DC03 ,  4J034DC12 ,  4J034DC35 ,  4J034DC37 ,  4J034DC39 ,  4J034DC42 ,  4J034DC43 ,  4J034DK02 ,  4J034DK03 ,  4J034DK05 ,  4J034DK08 ,  4J034DK09 ,  4J034GA65 ,  4J034GA74 ,  4J034HA01 ,  4J034HA02 ,  4J034HA07 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC22 ,  4J034HC35 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC54 ,  4J034HC61 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034HD02 ,  4J034HD03 ,  4J034HD04 ,  4J034HD05 ,  4J034HD06 ,  4J034HD07 ,  4J034HD08 ,  4J034HD12 ,  4J034HD15 ,  4J034JA21 ,  4J034JA42 ,  4J034KA01 ,  4J034KB04 ,  4J034RA19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-050549
  
• レジストインキ組成物及びその硬化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-108549   出願人：日本化薬株式会社, 太陽インキ製造株式会社
• 架橋硬化型樹脂組成物、硬化方法及び硬化樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-022904   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-262703   出願人：サンノプコ株式会社