特許
J-GLOBAL ID：200903053078010110
フオトマスク及び露光方法並びに投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-292063
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107739
出願日： 1991年10月14日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 露光領域全体に渡って良好な結像性能を得る。【構成】 フォトマスク1のパターン形成面には、ウエハ4の段差構造及び/又は投影レンズ3による結像面の歪みに応じて、屈折率の異なる透明膜1a,1bが被着され、結像面が光軸方向に移動される。このとき、投影レンズ3は、両側テレセントリックであることが望ましい。透明膜1a,1bはフォトマスク1と分離されていても良く、フォトマスク1と投影レンズ3の間に、ウエハ4の段差構造及び/又は結像面の歪みに応じた屈折率分布をもつ像面補正部材を配置しても良い。
請求項（抜粋）：
投影光学系を介して所定のパターンを感応基板上に露光するために用いられるフォトマスクにおいて、前記感応基板上の露光領域内にある段差構造及び/又は前記投影光学系による結像面の歪みに応じて、前記パターンの形成面側に、屈折率の異なる領域が設けられたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 L
