特許

J-GLOBAL ID：200903053080123614

無機粉体の製造方法および無機粉体

発明者： 岩井 亮 ,  林 正之
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-303741
公開番号（公開出願番号）：特開2000-129159
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】 表面にエポキシ基を多く残存させるための無機粉体の製造方法、および表面に多くのエポキシ基を有する無機粉体を提供する。【解決手段】 無機粉体の表面を(A)エポキシ基を有しない有機ケイ素化合物により処理した後、(B)エポキシ基を有する有機ケイ素化合物により処理することを特徴とする、表面にエポキシ基を有する無機粉体の製造方法、およびこの製造方法により得られたことを特徴とする無機粉体。

請求項（抜粋）：

無機粉体の表面を(A)エポキシ基を有しない有機ケイ素化合物により処理した後、(B)エポキシ基を有する有機ケイ素化合物により処理することを特徴とする、表面にエポキシ基を有する無機粉体の製造方法。

IPC (2件)：

C09C 3/12 ,  C08K 9/06

FI (2件)：

C09C 3/12 ,  C08K 9/06

Fターム (17件)：

4J037AA08 ,  4J037AA10 ,  4J037AA18 ,  4J037AA24 ,  4J037AA25 ,  4J037AA27 ,  4J037AA29 ,  4J037CA23 ,  4J037CA26 ,  4J037CB13 ,  4J037CB23 ,  4J037CB26 ,  4J037CC28 ,  4J037EE04 ,  4J037EE28 ,  4J037EE43 ,  4J037FF15

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-196621